蒙版是一种限制图形显示的控制方法。蒙版则被用来根据另一个图层的形状创建剪裁效果，限制该图层只能显示在蒙版区域内部。蒙版的结果是将对象层剪裁为蒙版所定义的形状。
遮罩和蒙版是两个常见的图形处理概念，它们有一些区别：
1. 定义：遮罩（Mask）是一种可应用于图像、图层或其他元素的可见性控制方法。蒙版（Clipping Mask）是一种限制图形显示的控制方法。
2. 用途：遮罩通常用于隐藏或显示图像中的特定区域，可以创建圆形、矩形、线性渐变等类型的遮罩。蒙版则被用来根据另一个图层的形状创建剪裁效果，限制该图层只能显示在蒙版区域内部。
3. 关系：遮罩可以通过绘制或使用现有形状、图像、文本等作为遮罩的内容，以定义其透明度，从而隐藏或显示特定区域。蒙版需要有两个图层，一个是要裁剪的对象层，另一个是作为蒙版的图层。
4. 显示结果：遮罩的结果是通过设置颜色和透明度来显示或隐藏特定区域。蒙版的结果是将对象层剪裁为蒙版所定义的形状。
总结：遮罩主要用于显示/隐藏特定区域，可以自定义形状和透明度，而蒙版则是用于剪裁对象层，只显示在蒙版所定义的区域内。